Российский чип не вышел в серию. Штраф превысил сумму контракта
«Научно-исследовательский институт молекулярной электроники» почти на три года просрочил освоение производства микросхем по госконтракту. Изделия должны были стать аналогами китайских и тайваньских решений. Компании выставили неустойку в размере суммы контракта.
Штраф на сумму контракта
Как выяснил CNews, АО «Научно-исследовательский институт молекулярной электроники» (НИИМЭ) почти на три года просрочил освоение серийного производства микросхем по заказу Минпромторга. Это следует из портала госзакупок.
Институт получил штрафы за срыв всех этапов разработки. Первый этап (разработка технического проекта) должен быть сдан еще 30 ноября 2020 г. Но фактически сдан 19 апреля 2021 г. Просрочка составила 140 дней и штраф за нее — 21,2 млн руб. Отчетные материалы ни по второму (изготовление опытных образцов), ни по третьему этапу (испытания и приемка) по состоянию на 30 октября 2025 г. так и не были сданы. Второй этап просрочен на 1430 дней (штраф 146,8 млн руб.). А третий — на 1065 дней, за что Минпромторг выставил НИИМЭ еще 109,3 млн руб.
Общий размер штрафов достиг 277,3 млн руб. при сумме контракта 275 млн руб. Однако согласно контракту, сумма штрафов не может превышать сумму контракта, поэтому неустойка была снижена до 275 млн руб., что равно сумме соглашения.
Контракт был заключен в июле 2020 г. Исполнен он должен быть до 31 декабря 2022 г. То есть задержка сдачи контракта скоро достигнет трех лет.
В чем заключались работы
НИИМЭ должен был разработать и освоить серийное производство комплекта микросхем в составе ПЛИС емкостью не менее 24 тыс. вентилей на основе статического ОЗУ, однократно программируемой памяти объемом не менее 8 Мбит и схемы управления питанием, под шифром «Алмаз-19-Т».
Согласно технической документации, разрабатываемые НИИМЭ микросхемы должны были стать косвенными аналогами изделий XC6SLX16, XC3S700A (Xilinx, США), XCF08 (Xilinx, США) и PMICRT5028(Richtec, Taiwan). ОКР выполнялась с одновременным освоением производства.
Разрабатываемые микросхемы должны были производиться по топологическим нормам 90 нанометров, с использованием средств автоматизированного проектирования (САПР) отечественной разработки.
Работы проводились в рамках программы «Развитие оборонно-промышленного комплекса».
В НИИМЭ отказались от комментариев. В Минпромторге не ответили на запрос CNews.
Группа компаний «Элемент», в состав которой входят НИИМЭ и «Микрон», была создана в 2019 г. путем объединения активов, принадлежавших «Ростеху» и «АФК Система». Она создавалась с целью организации единого национального центра компетенций в области микроэлектронной компонентной базы и в обеспечении технологического суверенитета России в этой области.
www.cnews.ru/news/top/2025-11-17_rossijskij_razrabotchik_mikroelektroniki
Финаме
БКС Мир Инвестиций
