про нанометры:
В индустрии микроэлектроники используются следующие литографы:
Фотолитографы. Для нанесения структур на пластину необходимо изготовление специального фотошаблона (маски). 1
Электронно-лучевые литографы. 15 Работа происходит непосредственно направленным пучком частиц, маска не требуется. 1
Также существуют различные классы литографов в зависимости от длины волны, генерируемой источником излучения: 1
i-line (Hg) — 365 нм; 1
KrF — 248 нм; 1
ArF dry — 193 нм; 1
ArF immersion — 193 нм; 1
EUV (Sn) — 13,5 нм. 1
Ключевые параметры литографов определяют размер техпроцесса. Они являются дорогостоящим оборудованием, вокруг которого строится завод.
щас дочитаю, еще допишу
