ГК «Элемент» завершила разработку первых в России кластерных систем для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ).
Научно-исследовательские институты молекулярной электроники (НИИМЭ) и точного машиностроения (НИИТМ) (входят в ГК «Элемент») создали установки, которые позволяют:
• выпускать интегральные микросхемы по топологическим нормам 65 нм;
• работать с пластинами диаметром 200 мм и 300 мм;
• обеспечить перспективную потребность российской микроэлектроники.
Почему это важно?
Мировой уровень. Россия вошла в пятёрку стран, обладающих компетенциями в разработке и производстве такого оборудования. Это открывает возможности для экспорта технологий и укрепления позиций на глобальном рынке.
Снижение себестоимости за счет кластерной схемы – объединение от 2 до 8 технологических установок с общей системой загрузки.
Повышение качества чипов благодаря исключению контакта пластин с атмосферой.
Гибкость в конфигурировании — модульная платформа позволяет переходить к более низким техпроцессам (вплоть до 28 нм).
Широкий рынок применения — оборудование встраивается в текущий техпроцесс фабрики и позволяет работать на техпроцессах с нормами от 28-250 нм, которые обеспечивают массовый выпуск микросхем для:
— автомобильной промышленности;
— авиакосмической отрасли;
— систем автоматизации и управления производством (АСУ-ТП).
Разработанные технологические процессы станут базой для адаптации под существующие техпроцессы и создания перспективных решений (включая уровень 28 нм).
китайский Huawei — завод для 7-нм процессоров Kirin и Ascend, с переходом на 5-нм.
В военке и гражданке
У нас на производстве многое еще паяльниками паяют потому что всякие нанометры там работать не могут