Список проголосовавших за комментарий "<em> </em><p><em>После введения США запрета на продажу в Китай передовых фотолитографов с длиной волны 13,5 нм у китайских разработчиков возникли серьёзные трудности с созданием собственного аналогичного фотолитографа. Кроме того, в 2024 году под запрет попали фотолитографы с длиной волны 193 нм и технологии для их производства, в том числе лазерные источники, что ещё больше осложнило задачу.</em><br/> <em>Китай отстаёт от мирового лидера в создании фотолитографов, голландской компании «ASML», более чем на 19 лет, и это отставание продолжает расти. Чтобы сократить разрыв, Китай вкладывает значительные средства в разработку и создание фотолитографа со сверхвысоким разрешением, который будет способен формировать топологию до 28 нм.</em></p><p><em>На данный момент Китай уже вложил в эту технологию более 5 млрд долларов, но этого оказалось недостаточно. Недавно был объявлен пакет помощи полупроводниковой промышленности на сумму 143 млрд долларов.</em></p><p><em>Это в два раза больше, чем у аналогичного пакета субсидирования микроэлектронной отрасли в США.</em></p>"